本发明公开了一种晶圆光刻加工用湿法清洗设备，其结构包括底箱、主体、控制面板，底箱的顶端设有主体，控制面板设置在主体的正前端，主体包括滑动槽、清洗设备、喷水管、支撑座，清洗设备包括卡合轴、复位弹簧、清洗装置、固定框，清洗装置包括连接杆、转轴、刷洗装置，刷洗装置包括固定座、活动槽、拉伸弹簧、刷洗头，刷洗头包括卡合头、毛刷、变形槽，本发明利用卡合轴旋转让清洗装置通过惯性往外甩开，从而增大清洗装置对晶圆端面的清洗面积，从而能够让清洗设备对晶圆的端面进行全面的清洗，避免清洗过后还有颗粒物质附在晶圆端面的情况。
